Размер:
A A A
Цвет: C C C
Изображения Вкл. Выкл.
Обычная версия сайта

Установка вакуумная для термического напыления материалов VSE-PVD-THERMO-LTE-4/2

Установка вакуумная для термического напыления материалов VSE-PVD-THERMO-LTE-4/2

Местонахождение оборудования и условие доступа к нему
Лаборатория тонкопленочных технологий (ALD-технологий)

Основные направления исследований, проводимых с использованием оборудования
Получение тонкопленочных покрытий методом термического испарения

Технические характеристики
Число испарителей:
  • 2 резистивных испарителя;
  • 2 низкотемпературных испарителя для органических веществ.
  • Объем испаряемого вещества:
  • для резистивного испарителя 1,5 см3;
  • для низкотемпературного испарителя 2,2 см3.
  • Рабочая температура испарителей:
  • резистивный испаритель: в зависимости от материала «лодочки» от 50 до 1500°C;
  • низкотемпературный испаритель: от 50 до 450°C.
  • Предельный вакуум: 5·10-6 mbar.
    Входное напряжение: 380 В; 50 Гц.
    Охлаждение: воздушное и водяное.
    Система управления:
  • измеритель – регулятор программный ТМР251;
  • программный контроллер и пользовательский интерфейс.
  • Система вакуумирования:
  • форвакуумный насос Scroll Meister ISP-250C «Anest Iwata»;
  • высоковакуумный турбомолекулярный насос nEXT240D «Edwards».

  • <--Назад к оборудованию